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7 Results:AA:한인식 0.156 sec.
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Nano-scale PMOSFET에서 Plasma Nitrided Oixde에 대한 소자 특성의 의존성
Nano-scale PMOSFET에서 Plasma Nitrided Oixde에 대한 소자 특성의 의존성
한인식, | 한국전기전자재료학회 | 2007 ,
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Nano CMOSFET에서 Channel Stress가 소자에 미치는 영향 분석
Nano CMOSFET에서 Channel Stress가 소자에 미치는 영향 분석
한인식, | 대한전자공학회 | 2006 ,
3
고속 반도체 소자에 서 배선 간의 Crosstalk에 의한 Coupling Capaciyance 변화 분석
고속 반도체 소자에 서 배선 간의 Crosstalk에 의한 Coupling Capaciyance 변화 분석
지희환, 한인식, 박성형, | 대한전자공학회 | 2005 ,
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Capacitance - Voltage 방법을 이용한 mosfet의 유효 채널 길이 추출
Capacitance - Voltage 방법을 이용한 mosfet의 유효 채널 길이 추출
김용구, 지희환, 한인식, 박성형, 이희덕, | 대한전자공학회 | 2004 ,
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Nano-CMOSFET를 위한 플라즈마-질화막의 초기 산화막 성장방법에 따른 소자 특성과 저주파 잡음 특성 분석
Nano-CMOSFET를 위한 플라즈마-질화막의 초기 산화막 성장방법에 따른 소자 특성과 저주파 잡음 특성 분석
주한수, | 한국전기전자재료학회 | 2007 ,
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사상체질별 숲치유의 생체학적 변화 : 예비연구
사상체질별 숲치유의 생체학적 변화 : 예비연구
홍선기, | 사상체질의학회 | 2012 ,
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새로운 BEOL 공정을 이용한 NBTI 수명시간 개선
새로운 BEOL 공정을 이용한 NBTI 수명시간 개선
호원준, | 대한전자공학회 | 2006 ,
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