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Digital 방식으로 출력 전력을 조절할 수 있는 900MHz CMOS RF 전력 증폭기
Digital 방식으로 출력 전력을 조절할 수 있는 900MHz CMOS RF 전력 증폭기
윤진한 ( Yun Jin Han ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
892
텅스텐 슬러리를 사용한 Cu-CMP 특성에서 산화제 첨가의 영향
텅스텐 슬러리를 사용한 Cu-CMP 특성에서 산화제 첨가의 영향
이우선 ( Lee U Seon ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
893
NH3 분위기에서 Ti 질화에 의한 TiN 형성
NH3 분위기에서 Ti 질화에 의한 TiN 형성
이근우 ( Lee Geun U ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
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실리카 슬러리의 에이징 효과 및 산화막 CMP 특성
실리카 슬러리의 에이징 효과 및 산화막 CMP 특성
이우선 ( Lee U Seon ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
895
유전율 이방성이 양인 액정을 이용한 프린지 필드 구동형 모드에서 프리틸트각 변화에 따른 전기-광학 특성
유전율 이방성이 양인 액정을 이용한 프린지 필드 구동형 모드에서 프리틸트각 변화에 따른 전기-광학 특성
정태봉 ( Jeong Tae Bong ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
896
MMIC에 적용되는 MIM 커패시터의 실리콘 질화막 증착과 전기적 특성
MMIC에 적용되는 MIM 커패시터의 실리콘 질화막 증착과 전기적 특성
성호근 ( Seong Ho Geun ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
897
구리 CMP 적용을 위한 산성 콜로이드 실리카를 포함한 준무연마제 슬러리 연구
구리 CMP 적용을 위한 산성 콜로이드 실리카를 포함한 준무연마제 슬러리 연구
김남훈 ( Kim Nam Hun ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
898
금속 CMP 적용을 위한 산화제의 역할
금속 CMP 적용을 위한 산화제의 역할
서용진 ( Seo Yong Jin ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
899
실리콘 산화막에 대한 Ta-Mo 합금 게이트의 열적 안정성
실리콘 산화막에 대한 Ta-Mo 합금 게이트의 열적 안정성
노영진 ( No Yeong Jin ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
900
RF 바이어스 조건 하에서 증착된 a-C:H 박막을 이용한 네마틱 액정의 배향 효과
RF 바이어스 조건 하에서 증착된 a-C:H 박막을 이용한 네마틱 액정의 배향 효과
황정연 ( Hwang Jeong Yeon ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
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