본문

  1. Home
1000 Results:AA:L JI 0.359 sec.
RSS 
다국어입력
 상세검색
 신착검색
선택출력 선택엑셀내보내기
461
The Hidden Advantage of Delegation: Pareto Improvements in a Gift Exchange Game
The Hidden Advantage of Delegation: Pareto Improvements in a Gift Exchange Game
Charness, G., | American Economic Assn | 2012 ,
462
Fringe-Field 구동형 반사형 Hybrid Aligned Nematic 액정 디스플레이의 전기-광학 특성
Fringe-Field 구동형 반사형 Hybrid Aligned Nematic 액정 디스플레이의 전기-광학 특성
정태봉 ( Jeong Tae Bong ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
463
Pb[(Mn1/3Sb2/3)0.05Zr0.475Ti0.475]O3 세라믹스를 이용한 변형 Ring/Dot형 압전세라믹 변압기의 감압특성
Pb[(Mn1/3Sb2/3)0.05Zr0.475Ti0.475]O3 세라믹스를 이용한 변형 Ring/Dot형 압전세라믹 변압기의 감압특성
남성진 ( Nam Seong Jin ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
464
텅스텐 슬러리를 사용한 Cu-CMP 특성에서 산화제 첨가의 영향
텅스텐 슬러리를 사용한 Cu-CMP 특성에서 산화제 첨가의 영향
이우선 ( Lee U Seon ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
465
NH3 분위기에서 Ti 질화에 의한 TiN 형성
NH3 분위기에서 Ti 질화에 의한 TiN 형성
이근우 ( Lee Geun U ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
466
실리카 슬러리의 에이징 효과 및 산화막 CMP 특성
실리카 슬러리의 에이징 효과 및 산화막 CMP 특성
이우선 ( Lee U Seon ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
467
유전율 이방성이 양인 액정을 이용한 프린지 필드 구동형 모드에서 프리틸트각 변화에 따른 전기-광학 특성
유전율 이방성이 양인 액정을 이용한 프린지 필드 구동형 모드에서 프리틸트각 변화에 따른 전기-광학 특성
정태봉 ( Jeong Tae Bong ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
468
Mg 결핍에 따른 Ba(Mg1/3Nb2/3)O3 세라믹스의 마이크로파 유전특성
Mg 결핍에 따른 Ba(Mg1/3Nb2/3)O3 세라믹스의 마이크로파 유전특성
백종후 ( Baeg Jong Hu ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
469
금속 CMP 적용을 위한 산화제의 역할
금속 CMP 적용을 위한 산화제의 역할
서용진 ( Seo Yong Jin ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
470
실리콘 산화막에 대한 Ta-Mo 합금 게이트의 열적 안정성
실리콘 산화막에 대한 Ta-Mo 합금 게이트의 열적 안정성
노영진 ( No Yeong Jin ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
처음이전42434445464748495051이후마지막