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에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸 파라벤의 In Vitro 검색시험 연구에서의 내분비독성
에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸 파라벤의 In Vitro 검색시험 연구에서의 내분비독성
이성훈 ( Sung Hoon Lee ), | 한국식품위생안전성학회 | 2006 ,
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구름 요소를 사용하는 LM 가이드에서의 마이크로 스케일 진동현상
구름 요소를 사용하는 LM 가이드에서의 마이크로 스케일 진동현상
이용섭 ( Yong Sub Yi ), | 한국소음진동공학회 | 2004 ,
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반도체 : 금속 CMP 공정시 경질 다공성 패드의 적용
반도체 : 금속 CMP 공정시 경질 다공성 패드의 적용
김상용 ( Sang Yong Kim ), | 한국전기전자재료학회 | 2003 ,
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Development of Transgenic Lettuce Plants with Rice Ferritin Gene
Development of Transgenic Lettuce Plants with Rice Ferritin Gene
Zu An Lee, | 한국원예학회 | 2005 ,
15
Design and Fabrication of the 0.1 ㎛ Γ-Shaped Gate PHEMT
Design and Fabrication of the 0.1 ㎛ Γ-Shaped Gate PHEMT
Seong Dae Lee, | 한국전자파학회 | 2001 ,
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Optimization of Removal Rates with Guaranteed Dispersion Stability in Copper CMP Slurry
Optimization of Removal Rates with Guaranteed Dispersion Stability in Copper CMP Slurry
Tae Gun Kim, | 한국전기전자재료학회 | 2005 ,
17
A Study on the Corrosion Effects by Addition of Complexing Agent in the Copper CMP Process
A Study on the Corrosion Effects by Addition of Complexing Agent in the Copper CMP Process
Sang Yong Kim, | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
18
Roles of Phosphoric Acid in Slurry for Cu and TaN CMP
Roles of Phosphoric Acid in Slurry for Cu and TaN CMP
Sang Yong Kim, | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
19
Polishing Mechanism of TEOS-CMP with High-temperature Slurry by Surface Analysis
Polishing Mechanism of TEOS-CMP with High-temperature Slurry by Surface Analysis
Nam Hoon Kim, | 한국전기전자재료학회 | 2005 ,
20
Stability of H2O2 as an Oxidizer for Cu CMP
Stability of H2O2 as an Oxidizer for Cu CMP
Do Won Lee, | 한국전기전자재료학회 | 2005 ,
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