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Consumable approaches of polysilicon MEMS CMP
Consumable approaches of polysilicon MEMS CMP
Park, Sungmin, | 한국전기전자재료학회 | 2007 ,
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0.25㎛ 표준 CMOS 로직 공정을 이용한 Single polysilicon EEPROM 셀 및 고전압소자
0.25㎛ 표준 CMOS 로직 공정을 이용한 Single polysilicon EEPROM 셀 및 고전압소자
신윤수, | 한국전기전자재료학회 | 2006 ,
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Characteristics of Ni/Co Composite Silicides for Poly-silicon Gates
Characteristics of Ni/Co Composite Silicides for Poly-silicon Gates
Sangyeob Kim, Youngsoon Jung, Ohsung Song, | 한국마이크로전자및 패키징학회 | 2005 ,
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