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UV/O₃와 ECR 플라즈마를 이용한 Wafer Storage Box로부터 발생하는 Si 웨이퍼 표면 위의 유기오염물 제거
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최견석,임종민,이종무,박상준, | 대한금속.재료학회 | 2002 ,
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(중국 20대가 가장 많이 쓰는)중국어 BOX
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박미경, 727.5-박39주 | 넥서스CHINESE | 2002 727.5-박39주,
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