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UV/O₃와 ECR 플라즈마를 이용한 Wafer Storage Box로부터 발생하는 Si 웨이퍼 표면 위의 유기오염물 제거
UV/O₃와 ECR 플라즈마를 이용한 Wafer Storage Box로부터 발생하는 Si 웨이퍼 표면 위의 유기오염물 제거
상세정보
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 02533847
- 서명/저자
- UV/O₃와 ECR 플라즈마를 이용한 Wafer Storage Box로부터 발생하는 Si 웨이퍼 표면 위의 유기오염물 제거 / 최견석,임종민,이종무,박상준 공저
- 발행사항
- 서울 : 대한금속.재료학회, 2002.
- 형태사항
- pp. 765-771
- 기타저자
- 최견석,임종민,이종무,박상준
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60016579
MARC
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