서브메뉴
검색
반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과
반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과
Detailed Information
- Material Type
- 기사
- ISSN
- 12267945
- Author
- 유석빈(Seok Bin Yu)
- Title/Author
- 반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과 / 유석빈(Seok Bin Yu) ; 김남훈(Nam Hoon Kim) , 김창일(Chang Il Kim) , 장의구(Eui Goo Chang) 공저
- Publish Info
- 서울 : 한국전기전자재료학회, 2000.
- Material Info
- pp. 651-657
- General Note
- 참고문헌수록
- Added Entry-Personal Name
- 김남훈(Nam Hoon Kim) , 김창일(Chang Il Kim) , 장의구(Eui Goo Chang)
- Host Item Entry
- 전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic : 제13권 제8호 (2000년 8월) 2000, 08
- Electronic Location and Access
- url
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60235167
MARC
008191015s2000 ulk aa kor■022 ▼a12267945
■1001 ▼a유석빈(Seok Bin Yu)
■24510▼a반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과▼d유석빈(Seok Bin Yu) ▼e김남훈(Nam Hoon Kim) , 김창일(Chang Il Kim) , 장의구(Eui Goo Chang) 공저
■260 ▼a서울▼b한국전기전자재료학회▼c2000.
■300 ▼app. 651-657
■500 ▼a참고문헌수록
■7001 ▼a김남훈(Nam Hoon Kim) , 김창일(Chang Il Kim) , 장의구(Eui Goo Chang)
■773 ▼t전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic▼g제13권 제8호 (2000년 8월)▼d2000, 08
■856 ▼uhttp://www.kieeme.or.kr
■SIS ▼aS014426▼b60055323▼h8▼s2▼fP
Preview
Export
ChatGPT Discussion
AI Recommended Related Books
Detail Info.
- Reservation
- Not Exist
- My Folder
- Reference Materials for Thesis Writing
- Reference Materials for Research Ethics
- Job-Related Books
