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반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과
반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과
Detailed Information
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12267945
- 저자명
- 유석빈(Seok Bin Yu)
- 서명/저자
- 반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과 / 유석빈(Seok Bin Yu) , 김남훈(Nam Hoon Kim) , 김창일(Chang Il Kim) , 장의구(Eui Goo Chang) 공저
- 발행사항
- 서울 : 한국전기전자재료학회, 2000.
- 형태사항
- pp. 651-657
- 주기사항
- 참고문헌수록
- 원문정보
- url
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60235167
MARC
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■773 ▼t전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic▼g제13권 제8호 (2000년 8월)▼d2000, 08
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■SIS ▼aS014426▼b60055323▼h8▼s2▼fP
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