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MEMS 적용을 위한 Thermal CVD 방법에 의해 증착한 SiC막의 반응성 이온 Etching 특성 평가
MEMS 적용을 위한 Thermal CVD 방법에 의해 증착한 SiC막의 반응성 이온 Etching 특성 평가
Detailed Information
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12267945
- 서명/저자
- MEMS 적용을 위한 Thermal CVD 방법에 의해 증착한 SiC막의 반응성 이온 Etching 특성 평가 / 최기용 ( Choe Gi Yong ) , 최덕균 ( Choe Deog Gyun ) , 박지연 ( Park Ji Yeon ) , 김태송 ( Kim Tae Song ) 공저
- 발행사항
- 서울 : 한국전기전자재료학회, 2004.
- 형태사항
- pp. 299-304
- 주기사항
- 참고문헌 수록
- 원문정보
- url
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60233825
MARC
008191004s2004 ulk aa kor■022 ▼a12267945
■1001 ▼a최기용 ( Choe Gi Yong )
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■7001 ▼a최덕균 ( Choe Deog Gyun ) , 박지연 ( Park Ji Yeon ) , 김태송 ( Kim Tae Song )
■773 ▼t전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic▼g제17권 제3호 (2004년 3월)▼d2004, 03
■856 ▼uhttp://www.kieeme.or.kr
■SIS ▼aS014470▼b60055323▼h8▼s2▼fP
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