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도서명 :
MEMS 적용을 위한 Thermal
CVD 방법에 의해 증착한 SiC막의 반응성 이온 Etching 특성 평가
저 자 :
최기용 ( Choe Gi Yong )
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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