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Si (001) 기판에서 N2처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-TiSi2상의 열적 거동과 결정학적 특성에 관한 연구
Si (001) 기판에서 N2처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-TiSi2상의 열적 거동과 결정학적 특성에 관한 연구
Detailed Information
MARC
008190603s2001 ulk aa kor■022 ▼a12250562
■1001 ▼a양준모
■24510▼aSi (001) 기판에서 N2처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-TiSi2상의 열적 거동과 결정학적 특성에 관한 연구▼d양준모▼e이완규, 박태수, 이태권, 김중정, 김원, 김호정, 박주철, 이순영 공저
■260 ▼a서울▼b한국재료학회▼c2001.
■300 ▼app. 88-93
■500 ▼a권말 색인및 참고문헌수록
■7001 ▼a이완규, 박태수, 이태권, 김중정, 김원, 김호정, 박주철, 이순영
■773 ▼t한국재료학회지(Korean Journal of Materials Research)▼gVol. 11, No. 2, (2001 February)▼d2001, 02
■856 ▼uhttp:// www.mrs-k.or.kr
■SIS ▼aS014194▼b60055267▼h8▼s2▼fP
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