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도서명 :
Si (001) 기판에서 N2처리에
의해 형성된 에피택셜 C49-TiSi2상의 열적 거동과 결정학적 특성에 관한 연구
저 자 :
양준모
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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