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Si (001) 기판에서 N2처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-TiSi2상의 열적 거동과 결정학적 특성에 관한 연구
Si (001) 기판에서 N2처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-TiSi2상의 열적 거동과 결정학적 특성에 ...
Si (001) 기판에서 N2처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-TiSi2상의 열적 거동과 결정학적 특성에 관한 연구

상세정보

자료유형  
 기사
ISSN  
12250562
저자명  
양준모
서명/저자  
Si (001) 기판에서 N2처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-TiSi2상의 열적 거동과 결정학적 특성에 관한 연구 / 양준모 , 이완규, 박태수, 이태권, 김중정, 김원, 김호정, 박주철, 이순영 공저
발행사항  
서울 : 한국재료학회, 2001.
형태사항  
pp. 88-93
주기사항  
권말 색인및 참고문헌수록
기타저자  
이완규, 박태수, 이태권, 김중정, 김원, 김호정, 박주철, 이순영
기본자료저록  
한국재료학회지(Korean Journal of Materials Research) : Vol. 11, No. 2, (2001 February) 2001, 02
원문정보  
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모체레코드  
모체정보확인
Control Number  
kjul:60218599

MARC

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