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반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 CoSi₂ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구
반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 CoSi₂ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 ...
반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 CoSi₂ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구

Detailed Information

자료유형  
 기사
ISSN  
12250562
저자명  
김선일
서명/저자  
반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 CoSi₂ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구 / 김선일 , 이희승, 박종호, 안병태 공저
발행사항  
서울 : 한국재료학회, 2003.
형태사항  
pp. 1-5
주기사항  
권말 참고문헌 수록
기타저자  
이희승, 박종호, 안병태
기본자료저록  
한국재료학회지(Korean Journal of Materials Research) : Vol. 13, No. 1, (2003 January) 2003, 01
원문정보  
 url
모체레코드  
모체정보확인
Control Number  
kjul:60218578

MARC

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