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반응성 스퍼터링법으로 증착된 CoNx 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택션 CoSi2 성장 연구
반응성 스퍼터링법으로 증착된 CoNx 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택션 CoSi2 성장 연구
상세정보
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12250562
- 서명/저자
- 반응성 스퍼터링법으로 증착된 CoNx 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택션 CoSi2 성장 연구 / 이승렬, 김선일, 안병태 공저
- 발행사항
- 서울 : 한국재료학회, 2006.
- 형태사항
- pp. 30-36
- 기타저자
- 이승렬, 김선일, 안병태
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60071529
MARC
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■245 ▼a반응성 스퍼터링법으로 증착된 CoNx 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택션 CoSi2 성장 연구▼d이승렬, 김선일, 안병태 공저
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■773 ▼t한국재료학회지(Korean Journal of Materials Research)▼gVol. 16, No. 1, (2006 January)▼d2006, 01
■URL ▼ahttp://www.mrs-k.or.kr
■SIS ▼aS018274▼b60055267▼h8▼s2
