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Effect of In-Situ Plasma Cleaning On the Crystalline Quality of silicon Homoepitaxial Films

Effect of In-Situ Plasma Cleaning On the Crystalline Quality of silicon Homoepitaxial Films

Kwang-sik Kim,Hyoun-woo Kim, | 대한금속.재료학회 | 2001 ,

소장정보

소장정보
등록번호	별치/청구기호	소장처	대출여부	대출정보
AR05822	P -	참고자료실(관광학관2층)	대출불가

1

소트

구분

자료유형

기사 (1)

저자

Kwang-sik Kim,Hyoun-woo Kim (1+)

출판사

대한금속.재료학회 (1+)

출판년도

2001 (1)

언어

eng (1)