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9 Results:AA:KYOUNG TAE KIM CHANG IL KIM 0.343 sec.
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1
반도체 ; Ar/CF4 유도결합 플라즈마를 이용한 BET 박막의 식각 메카니즘
반도체 ; Ar/CF4 유도결합 플라즈마를 이용한 BET 박막의 식각 메카니즘
임규태 ( Kyu Tae Lim ), | 한국전기전자재료학회 | 2003 ,
2
반도체 ; 유도결합 플라즈마를 이용한 PST 박막의 식각 특성
반도체 ; 유도결합 플라즈마를 이용한 PST 박막의 식각 특성
김관하 ( Gwan Ha Kim ), | 한국전기전자재료학회 | 2003 ,
3
반도체 ; FRAM 응용을 위한 건조온도에 따른 BLT 박막의 강유전 특성
반도체 ; FRAM 응용을 위한 건조온도에 따른 BLT 박막의 강유전 특성
김경태 ( Kyoung Tae Kim ), | 한국전기전자재료학회 | 2003 ,
4
CF4/Gas Chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응
CF4/Gas Chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응
임규태 ( Kyu Tae Lim ), | 한국전기전자재료학회 | 2002 ,
5
Ar/CF4 유도결합 플라즈마를 이용한 (Ba0.6Sr0.4)TiO3 박막의 식각 특성
Ar/CF4 유도결합 플라즈마를 이용한 (Ba0.6Sr0.4)TiO3 박막의 식각 특성
강필승 ( Pil Seung Kang ), | 한국전기전자재료학회 | 2002 ,
6
반도체 : Ar/CF4 유도결합 플라즈마에서 식각된 (Ba0.6Sr0.4)TiO3 박막의 손상 감소
반도체 : Ar/CF4 유도결합 플라즈마에서 식각된 (Ba0.6Sr0.4)TiO3 박막의 손상 감소
강필승 ( Pil Seung Kang ), | 한국전기전자재료학회 | 2003 ,
7
반도체 : Cl-based 플라즈마에 의한 YMnO3 박막의 식각 damage에 관한 연구
반도체 : Cl-based 플라즈마에 의한 YMnO3 박막의 식각 damage에 관한 연구
박재화 ( Jae Hwa Park ), | 한국전기전자재료학회 | 2003 ,
8
The Electrical Improvement of PZT Thin Films Etched into CF4/(Cl2+Ar) Plasma
The Electrical Improvement of PZT Thin Films Etched into CF4/(Cl2+Ar) Plasma
Seong Mo Koo, | 한국전기전자재료학회 | 2005 ,
9
Dry Etching of BST using Inductively Coupled Plasma
Dry Etching of BST using Inductively Coupled Plasma
Gwan Ha Kim, | 한국전기전자재료학회 | 2005 ,
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