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2 Results:AA:김남훈 PP:한국전기전자재료학회 AA:이우선 AA:고필주 0.46 sec.
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산화제 첨가에 따른 WO3 박막의 CMP 평탄화 특성
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이우선, | 한국전기전자재료학회 | 2005 ,
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산화막 CMP 공정에서 슬러리 온도 변화에 따른 연마 특성
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고필주, | 한국전기전자재료학회 | 2005 ,
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