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2 Results:AA:권정열 PP:한국전기전자재료학회 AA:추순남 0.44 sec.
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BTS 방법을 사용한 Low-K 유전체 물질들과 산화막의 Cu 드리프트 확산에 대한 비교 연구
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추순남, | 한국전기전자재료학회 | 2007 ,
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반응성 스퍼터링법으로 Al/AIN/GaAs 커패시터 제조시 (NH4)2S 처리에 따른 전기적 특성
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추순남, | 한국전기전자재료학회 | 2007 ,
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