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새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 Dry Etching 과 기존의 Wet Etching 기술과의 비교
새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 Dry Etching 과 기존의 Wet Etching 기술과의 비교
강형곤, | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
2
초전도,자성체 : 플라즈마 식각을 이용한 초전도 자속 흐름 트랜지스터
초전도,자성체 : 플라즈마 식각을 이용한 초전도 자속 흐름 트랜지스터
강형곤 ( Hyeong Gon Kang ), | 한국전기전자재료학회 | 2003 ,
3
CeO2 첨가와 도포물질의 입자크기가 확산공정을 이용한 고온초전도 후막의 특성에 미치는 영향
CeO2 첨가와 도포물질의 입자크기가 확산공정을 이용한 고온초전도 후막의 특성에 미치는 영향
임성훈, | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
4
초전도 , 자성체 : 나선형태로 제작된 고온초전도 한류기의 특성해석
초전도 , 자성체 : 나선형태로 제작된 고온초전도 한류기의 특성해석
정동철(Dong Chul Chung), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
5
논문 : 초전도 ; 다채널 고온 초전도 볼텍스 유동 트랜지스터의 1-5 특성 해석
논문 : 초전도 ; 다채널 고온 초전도 볼텍스 유동 트랜지스터의 1-5 특성 해석
고석철 ( Go Seog Cheol ), | 한국전기전자재료학회 | 2003 ,
6
ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석
ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석
고석철 ( Seok Cheol Ko ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
7
전도성 AFM 탐침에 의한 YBa2Cu3O7-x 스트립 라인의 산화피막 형성
전도성 AFM 탐침에 의한 YBa2Cu3O7-x 스트립 라인의 산화피막 형성
고석철, | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
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