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C₂F 6가스가 Via Etching 특성에 미치는 영향
C₂F 6가스가 Via Etching 특성에 미치는 영향
류지형, 박재돈, 윤기완, | 대한전자공학회 | 2002 ,
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Characteristics of Ru Etching Using O₂/Cl₂Plasmas
Characteristics of Ru Etching Using O₂/Cl₂Plasmas
Hyoun Woo Kim, | 대한금속.재료학회 | 2002 ,
3
Negative Ion Etching of Al-Si-Cu by Employing a Magnetic Filter in Halogen Plasmas
Negative Ion Etching of Al-Si-Cu by Employing a Magnetic Filter in Halogen Plasmas
Bong-Ju Lee,Yasuhiro Horiike, | 대한금속.재료학회 | 2002 ,
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