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코발트 실리사이드 접합을 사용하는 0.15㎛ CMOS Technology에서 얕은 접합에서의 누설 전류 특성 분석과 실리사이드에 의해 발생된 Schottky Contact 면적의 유도
코발트 실리사이드 접합을 사용하는 0.15㎛ CMOS Technology에서 얕은 접합에서의 누설 전류 특성 분석과 실리사이드에 의해 발생된 Schottky Contact 면적의 유도
강근구, 장명준, 이원창, | 대한전자공학회 | 2002 ,
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Analysis of Static and Dynamic Frictional Contact of Deformable Bodies Including Large Rotations of the Contact Surfaces
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Kisu Lee, | 대한기계학회 | 2002 ,
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A Numerical Study on Heat Transfer Characteristics in a Spray Column Direct Contact Heat Exchanger
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Yong Heack Kang,Nam Jin Kim,Byong Ki Hur,Chong Bo, | 대한기계학회 | 2002 ,
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Contact Dermatitis (01051873)
Blackwell Publishing Limited [, ]
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Convention (VIII) Relative to the Laying of Automatic Submarine Contact Mines
Great Neck Publishing [, ]