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1

CF4/Gas Chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응

CF4/Gas Chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응

임규태 ( Kyu Tae Lim ), | 한국전기전자재료학회 | 2002 ,

소장정보

소장정보
등록번호	별치/청구기호	소장처	대출여부	대출정보
AR118729	P -	참고자료실(관광학관2층)	대출불가

2

Ar/CF4 유도결합 플라즈마를 이용한 (Ba0.6Sr0.4)TiO3 박막의 식각 특성

Ar/CF4 유도결합 플라즈마를 이용한 (Ba0.6Sr0.4)TiO3 박막의 식각 특성

강필승 ( Pil Seung Kang ), | 한국전기전자재료학회 | 2002 ,

소장정보

소장정보
등록번호	별치/청구기호	소장처	대출여부	대출정보
AR118697	P -	참고자료실(관광학관2층)	대출불가

1

소트

구분

자료유형

기사 (2)

저자

출판사

한국전기전자재료학회 (2+)

출판년도

2002 (2)

언어

kor (2)