본문

  1. Home
1000 Results:AA:S JI 0.407 sec.
RSS 
다국어입력
 상세검색
 신착검색
선택출력 선택엑셀내보내기
621
전자세라믹스 / 다층구조 InSb 홀소자의 제작과 특성
전자세라믹스 / 다층구조 InSb 홀소자의 제작과 특성
이우선(Woo Sun Lee), | 한국전기전자재료학회 | 2000 ,
622
프렉탈을 이용한 ZnO 바리스터 표면 구조 및 전기적 특성
프렉탈을 이용한 ZnO 바리스터 표면 구조 및 전기적 특성
오수홍(Soo Hong Oh), | 한국전기전자재료학회 | 2000 ,
623
탈이온수의 압력과 정제된 N2 가스가 ILD - CMP 공정에 미치는 영향
탈이온수의 압력과 정제된 N2 가스가 ILD - CMP 공정에 미치는 영향
김상용(Sang Yong Kim), | 한국전기전자재료학회 | 2000 ,
624
초전도 , 자성체 : 나선형태로 제작된 고온초전도 한류기의 특성해석
초전도 , 자성체 : 나선형태로 제작된 고온초전도 한류기의 특성해석
정동철(Dong Chul Chung), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
625
초전도 , 자성체 : BSCCO 선재에서 극점도를 통한 초전도심의 깊이에 따른 집합조직 연구
초전도 , 자성체 : BSCCO 선재에서 극점도를 통한 초전도심의 깊이에 따른 집합조직 연구
지봉기(Bong Ki Ji), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
626
센서 , 기능성 박막 : RF 마그네트론 스퍼터링에 의한 ZnO 박막 SAW 필터에 관한 연구
센서 , 기능성 박막 : RF 마그네트론 스퍼터링에 의한 ZnO 박막 SAW 필터에 관한 연구
박용욱(Yong Wook Park), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
627
반도체 : CMP 공정에서 마이크로 스크래치 감소를 위한 슬러리 필터의 특성
반도체 : CMP 공정에서 마이크로 스크래치 감소를 위한 슬러리 필터의 특성
김철복(Chul Bok Kim), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
628
반도체 : 분무합성법으로 제작한 α - Ga2S3 및 α - Ga2S3 : Co2+ 박막의 광학적 특성
반도체 : 분무합성법으로 제작한 α - Ga2S3 및 α - Ga2S3 : Co2+ 박막의 광학적 특성
김형곤(Hyung Gon Kim), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
629
디스플레이 , 광소자 : 정공 주입층 특성에 따른 발광층에서의 재결합 영역 변화
디스플레이 , 광소자 : 정공 주입층 특성에 따른 발광층에서의 재결합 영역 변화
한우미(Woo Mi Han), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
630
반도체 : POU 슬러리 필터와 탈이온수의 고분사법에 의한 패드수명의 개선
반도체 : POU 슬러리 필터와 탈이온수의 고분사법에 의한 패드수명의 개선
박성우(Sung Woo Park), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
처음이전58596061626364656667이후마지막
1
Geophys. J. Int.
한국지진연구소 [지학, ]