본문

  1. Home
844 Results:AA:N KIM 0.427 sec.
RSS 
다국어입력
 상세검색
 신착검색
선택출력 선택엑셀내보내기
341
IPS 셀의 전압보유율 및 잔류 DC 특성 연구
IPS 셀의 전압보유율 및 잔류 DC 특성 연구
김향율(Hyang Yul Kim), | 한국전기전자재료학회 | 2002 ,
342
논문 : 센서,기능성박막 ; 산화주석을 기반으로 한 DMMP 후막가스센서 제작
논문 : 센서,기능성박막 ; 산화주석을 기반으로 한 DMMP 후막가스센서 제작
최낙진 ( Choe Nag Jin ), | 한국전기전자재료학회 | 2003 ,
343
비선형 특성을 갖는 (Sr , Ca) TiO3 계 세라믹의 미세구조 및 유전특성
비선형 특성을 갖는 (Sr , Ca) TiO3 계 세라믹의 미세구조 및 유전특성
최운식(Woon Shik Choi), | 한국전기전자재료학회 | 2002 ,
344
Direct Somatic Embryogenesis and Plant Regeneration in Cineraria (Senecio cruentus)
Direct Somatic Embryogenesis and Plant Regeneration in Cineraria (Senecio cruentus)
Eun Young Nam, | 한국원예학회 | 2005 ,
345
Beyond Happiness and Satisfaction: Toward Well-Being Indices Based on Stated Preference
Beyond Happiness and Satisfaction: Toward Well-Being Indices Based on Stated Preference
Daniel J. Benjamin, | American Economic Assn | 2014 ,
346
A 90-nm FPGA I/O Buffer Design With 1.6-Gb/s Data Rate for Source-Synchronous System and 300-MHz Clock Rate for External Memory Interface
A 90-nm FPGA I/O Buffer Design With 1.6-Gb/s Data Rate for Source-Synchronous System and 300-MHz Clock Rate for External Memory Interface
Tyhach, J, | Institute of Electrical and Electronics Engineers | 2005 ,
347
구리 CMP 적용을 위한 산성 콜로이드 실리카를 포함한 준무연마제 슬러리 연구
구리 CMP 적용을 위한 산성 콜로이드 실리카를 포함한 준무연마제 슬러리 연구
김남훈 ( Kim Nam Hun ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
348
솔더범프와 TiW/Cu/electroplating Cu UBM 층과의 금속간 화합물 형성과 범프 전단력에 관한 연구
솔더범프와 TiW/Cu/electroplating Cu UBM 층과의 금속간 화합물 형성과 범프 전단력에 관한 연구
장의구 ( Jang Ui Gu ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
349
Mg 결핍에 따른 Ba(Mg1/3Nb2/3)O3 세라믹스의 마이크로파 유전특성
Mg 결핍에 따른 Ba(Mg1/3Nb2/3)O3 세라믹스의 마이크로파 유전특성
백종후 ( Baeg Jong Hu ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
350
HBT의 전류원 모델을 위한 최적 열 저항값 추출 방법
HBT의 전류원 모델을 위한 최적 열 저항값 추출 방법
서영석 ( Seo Yeong Seog ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
처음이전30313233343536373839이후마지막
1
Helsinki Monitor
Martinus Nijhoff [, ]