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![Physical and Electrical Characteristics of Atomic-Layer-Deposited Hf-Silicate Thin Films Using Hf[N(CH₃)(C₂H5)]₄ and SiH[N(CH₃)₂]₃ Precursors](/Sponge/Images/bookDefaults/AAbookdefaultsmall.png)
소트
구분
자료유형
저자
- K. B. Chung (1+)
- J.H.Chung, S.I.Hong, H.S.Kim (1+)
- J.-H. Chung (1+)
- Hyeon-Seung Huh (1+)
- Deuk Chul Kwon (1+)
출판사
출판년도
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