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Electrodeposition 변수에 따른 Trench Via의 Cu Filling 특성
Electrodeposition 변수에 따른 Trench Via의 Cu Filling 특성
이광용, | 한국마이크로전자및 패키징학회 | 2006 ,
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전류인가 방법이 3D-SiP용 Through Via Hole의 Filling에 미치는 영향
전류인가 방법이 3D-SiP용 Through Via Hole의 Filling에 미치는 영향
장근호, | 한국마이크로전자및 패키징학회 | 2006 ,
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Electroplating of Copper Using Pulse-Reverse Electroplating Method for SiP Via Filling
Electroplating of Copper Using Pulse-Reverse Electroplating Method for SiP Via Filling
J. S. Bae, G. H. Chang, J. H. Lee, | 한국마이크로전자및 패키징학회 | 2005 ,
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