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Enhanced - Inductively Coupled Plasma ( E - ICP ) 를 이용한 Silylated Photoresist 식각공정개발
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조수범(Soo Beom Jo), | 한국전기전자재료학회 | 2002 ,
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범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
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조수범 ( Soo Beom Jo ), | 한국전기전자재료학회 | 2004 ,
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