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超LSI技術, 6. : 半導體プロセス その2
超LSI技術, 6. : 半導體プロセス その2
상세정보
MARC
008010927s1982 ja a 001 jpn■035 ▼aKRIC07251811
■090 ▼a569.4▼b서883초
■1001 ▼a서택윤일
■24510▼a超LSI技術, 6.▼b半導體プロセス その2▼d西澤潤一 편저.
■260 ▼a동경▼b工業調査會▼c1982.
■300 ▼av.▼b삽도▼c23 cm.
■49010▼a반도체연구▼v19
■504 ▼a권말 색인 수록
■653 ▼a超LSI▼a技術
■740 2▼a반도체プロセス その2
■9500 ▼b150000


