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탈이온수의 압력과 정제된 N2 가스가 ILD - CMP 공정에 미치는 영향
탈이온수의 압력과 정제된 N2 가스가 ILD - CMP 공정에 미치는 영향
Detailed Information
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12267945
- 서명/저자
- 탈이온수의 압력과 정제된 N2 가스가 ILD - CMP 공정에 미치는 영향 / 김상용(Sang Yong Kim) , 이우선(Woo Sun Lee) , 서용진(Yong Jin Seo) , 김창일(Chang Il Kim) , 장의구(Eui Goo Chang) , 박진성(Jin Sung Park) 공저
- 발행사항
- 서울 : 한국전기전자재료학회, 2000.
- 형태사항
- pp. 812-816
- 주기사항
- 참고문헌수록
- 기타저자
- 이우선(Woo Sun Lee) , 서용진(Yong Jin Seo) , 김창일(Chang Il Kim) , 장의구(Eui Goo Chang) , 박진성(Jin Sung Park)
- 원문정보
- url
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60235139
MARC
008191014s2000 ulk aa kor■022 ▼a12267945
■1001 ▼a김상용(Sang Yong Kim)
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■773 ▼t전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic▼g제13권 제10호 (2000년 10월)▼d2000, 10
■856 ▼uhttp://www.kieeme.or.kr
■SIS ▼aS014428▼b60055323▼h8▼s2▼fP
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