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새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 Dry Etching 과 기존의 Wet Etching 기술과의 비교
새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 Dry Etching 과 기존의 Wet Etching 기술과의 비교
Detailed Information
- Material Type
- 기사
- ISSN
- 12267945
- Author
- 강형곤
- Title/Author
- 새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 Dry Etching 과 기존의 Wet Etching 기술과의 비교 / 강형곤 ; 임성훈, 임연호, 한윤봉, 황종선, 한병성 공저
- Publish Info
- 서울 : 한국전기전자재료학회, 2001.
- Material Info
- pp. 158-162
- General Note
- 권말 색인 및 참고문헌 수록
- Added Entry-Personal Name
- 임성훈, 임연호, 한윤봉, 황종선, 한병성
- Host Item Entry
- 전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic : 제14권 제2호 (2001년 2월) 2001, 02
- Electronic Location and Access
- url
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60235087
MARC
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