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CF4/Gas Chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응
CF4/Gas Chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응
Detailed Information
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12267945
- 서명/저자
- CF4/Gas Chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응 / 임규태 ( Kyu Tae Lim ) , 김동표 ( Dong Pyo Kim ) , 김경태 ( Kyoung Tae Kim ) , 김창일 ( Chang Il Kim ) , 최장현 ( Jang Hyun Choi ) , 송준태 ( Joon Tae Song ) 공저
- 발행사항
- 서울 : 한국전기전자재료학회, 2002.
- 형태사항
- pp. 1016-1020
- 주기사항
- 참고문헌 수록
- 원문정보
- url
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60234707
MARC
008191008s2002 ulk aa kor■022 ▼a12267945
■1001 ▼a임규태 ( Kyu Tae Lim )
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■773 ▼t전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic▼g제15권 제12호 (2002년 12월)▼d2002, 12
■856 ▼uhttp://www.kieeme.or.kr
■SIS ▼aS014454▼b60055323▼h8▼s2▼fP
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