서브메뉴
검색
CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과
CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과
Detailed Information
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12267945
- 서명/저자
- CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과 / 김경태(Kyoung Tae Kim) , 김창일(Chang Il Kim) , 강명구(Myoung Gu Kang) 공저
- 발행사항
- 서울 : 한국전기전자재료학회, 2002.
- 형태사항
- pp. 319-324
- 주기사항
- 참고문헌 수록
- 원문정보
- url
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60234424
MARC
008191008s2002 ulk aa kor■022 ▼a12267945
■1001 ▼a김경태(Kyoung Tae Kim)
■24510▼aCI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과▼d김경태(Kyoung Tae Kim) ▼e김창일(Chang Il Kim) , 강명구(Myoung Gu Kang) 공저
■260 ▼a서울▼b한국전기전자재료학회▼c2002.
■300 ▼app. 319-324
■500 ▼a참고문헌 수록
■7001 ▼a김창일(Chang Il Kim) , 강명구(Myoung Gu Kang)
■773 ▼t전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic▼g제15권 제4호 (2002년 4월)▼d2002, 04
■856 ▼uhttp://www.kieeme.or.kr
■SIS ▼aS014446▼b60055323▼h8▼s2▼fP
Preview
Export
ChatGPT Discussion
AI Recommended Related Books
Подробнее информация.
- Бронирование
- не существует
- моя папка
- Reference Materials for Thesis Writing
- Reference Materials for Research Ethics
- Job-Related Books
