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CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과
CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과 / 김경태(Kyoung Tae ...
CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과

상세정보

자료유형  
 기사
ISSN  
12267945
저자명  
김경태(Kyoung Tae Kim)
서명/저자  
CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과 / 김경태(Kyoung Tae Kim) , 김창일(Chang Il Kim) , 강명구(Myoung Gu Kang) 공저
발행사항  
서울 : 한국전기전자재료학회, 2002.
형태사항  
pp. 319-324
주기사항  
참고문헌 수록
기타저자  
김창일(Chang Il Kim) , 강명구(Myoung Gu Kang)
기본자료저록  
전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic : 제15권 제4호 (2002년 4월) 2002, 04
원문정보  
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모체레코드  
모체정보확인
Control Number  
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MARC

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