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BTS 방법을 사용한 Low-K 유전체 물질들과 산화막의 Cu 드리프트 확산에 대한 비교 연구
BTS 방법을 사용한 Low-K 유전체 물질들과 산화막의 Cu 드리프트 확산에 대한 비교 연구 / 추순...
BTS 방법을 사용한 Low-K 유전체 물질들과 산화막의 Cu 드리프트 확산에 대한 비교 연구

Detailed Information

자료유형  
 기사
ISSN  
12267945
저자명  
추순남
서명/저자  
BTS 방법을 사용한 Low-K 유전체 물질들과 산화막의 Cu 드리프트 확산에 대한 비교 연구 / 추순남 , 권정열, 김장원, 박정철, 이헌용 공저
발행사항  
서울 : 한국전기전자재료학회, 2007.
형태사항  
pp. 106-112
주기사항  
권말 색인 및 참고문헌 수록
기타저자  
권정열, 김장원, 박정철, 이헌용
기본자료저록  
전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic : 제20권 제2호 (2007년 2월) 2007, 02
원문정보  
 url
모체레코드  
모체정보확인
Control Number  
kjul:60232911

MARC

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