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Nano-CMOSFET를 위한 플라즈마-질화막의 초기 산화막 성장방법에 따른 소자 특성과 저주파 잡음 특성 분석
Nano-CMOSFET를 위한 플라즈마-질화막의 초기 산화막 성장방법에 따른 소자 특성과 저주파 잡음 특성 분석
Detailed Information
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12267945
- 저자명
- 주한수
- 서명/저자
- Nano-CMOSFET를 위한 플라즈마-질화막의 초기 산화막 성장방법에 따른 소자 특성과 저주파 잡음 특성 분석 / 주한수 , 한인식, 구태규, 유욱상, 최원호, 최명규, 이가원, 이희덕 공저
- 발행사항
- 서울 : 한국전기전자재료학회, 2007.
- 형태사항
- pp. 1-7
- 주기사항
- 권말 색인 및 참고문헌 수록
- 원문정보
- url
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60232874
MARC
008190930s2007 ulk aa kor■022 ▼a12267945
■1001 ▼a주한수
■24510▼aNano-CMOSFET를 위한 플라즈마-질화막의 초기 산화막 성장방법에 따른 소자 특성과 저주파 잡음 특성 분석▼d주한수▼e한인식, 구태규, 유욱상, 최원호, 최명규, 이가원, 이희덕 공저
■260 ▼a서울▼b한국전기전자재료학회▼c2007.
■300 ▼app. 1-7
■500 ▼a권말 색인 및 참고문헌 수록
■7001 ▼a한인식, 구태규, 유욱상, 최원호, 최명규, 이가원, 이희덕
■773 ▼t전기전자재료학회논문지(Journal of the korean Institute and Electronic▼g제20권 제1호 (2007년 1월)▼d2007, 01
■856 ▼uhttp://kieeme.or.kr
■SIS ▼aS037052▼b60055323▼h8▼s2▼fP
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