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ISSN  

12250562

저자명  

이화성

서명/저자  

반응성 화학기상증착법을 이용한 에피택셜 CoSi2 박막의 형성 및 성장에 관한 연구 / 이화성 , 이희승, 안병태 공저

발행사항  

서울 : 한국재료학회, 2000.

형태사항  

pp. 738-741

주기사항  

권말 색인및 참고문헌수록

기타저자  

이희승, 안병태

기본자료저록  

한국재료학회지(Korean Journal of Materials Research) : Vol. 10, No. 11, (2000 November) 2000, 11

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kjul:60218705