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반응성 화학기상증착법을 이용한 에피택셜 CoSi2 박막의 형성 및 성장에 관한 연구
반응성 화학기상증착법을 이용한 에피택셜 CoSi2 박막의 형성 및 성장에 관한 연구
상세정보
MARC
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■1001 ▼a이화성
■24510▼a반응성 화학기상증착법을 이용한 에피택셜 CoSi2 박막의 형성 및 성장에 관한 연구▼d이화성▼e이희승, 안병태 공저
■260 ▼a서울▼b한국재료학회▼c2000.
■300 ▼app. 738-741
■500 ▼a권말 색인및 참고문헌수록
■7001 ▼a이희승, 안병태
■773 ▼t한국재료학회지(Korean Journal of Materials Research)▼gVol. 10, No. 11, (2000 November)▼d2000, 11
■856 ▼uhttp://www.mrs-k.or.kr
■SIS ▼aS014191▼b60055267▼h8▼s2▼fP
