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 기사

ISSN  

12250562

저자명  

홍성진

서명/저자  

Cu/Ti/SiO₂/Si 구조에서 Ti 층 두께가 Ti 반응에 미치는 효과 / 홍성진 , 이재갑 공저

발행사항  

서울 : 한국재료학회, 2002.

형태사항  

pp. 889-893

주기사항  

권말 참고문헌 수록

기타저자  

이재갑

기본자료저록  

한국재료학회지(Korean Journal of Materials Research) : Vol. 12, No. 11, (2002 November) 2002, 11

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kjul:60218549