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유도결합 N₂O 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 저온성장과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 영향
유도결합 N₂O 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 저온성장과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 영향
Detailed Information
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12250562
- 저자명
- 원만호
- 서명/저자
- 유도결합 N₂O 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 저온성장과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 영향 / 원만호 , 김성철, 안진형, 김보현, 안병태 공저
- 발행사항
- 서울 : 한국재료학회, 2002.
- 형태사항
- pp. 724-728
- 주기사항
- 권말 참고문헌 수록
- 기타저자
- 김성철, 안진형, 김보현, 안병태
- 원문정보
- url
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60218471
MARC
008190603s2002 ulk aa kor■022 ▼a12250562
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■7001 ▼a김성철, 안진형, 김보현, 안병태
■773 ▼t한국재료학회지(Korean Journal of Materials Research)▼gVol. 12, No. 9, (2002 September)▼d2002, 09
■856 ▼uhttp://www.mrs-k.or.kr
■SIS ▼aS014213▼b60055267▼h8▼s2▼fP
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