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ISSN  

12250562

저자명  

이희승

서명/저자  

반응성 화학기상증착법에 의해 다결정실리콘 위에 직접성장된 CoSi2 층의 열적안정성의 개선 / 이희승 , 이화성, 안병태 공저

발행사항  

서울 : 한국재료학회, 2001.

형태사항  

pp. 641-646

주기사항  

권말 색인및 참고문헌수록

기타저자  

이화성, 안병태

기본자료저록  

한국재료학회지(Korean Journal of Materials Research) : Vol. 11, No. 8, (2001 August) 2001, 08

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kjul:60218188