MARC

 008060210s2000        ULKa    a                          ENG
■022    ▼a02561115
■245    ▼aA  Unified  Global  Self-Consistent  Model  of  a  Capacitively  and  Inductively  Coupled  Plasma  Etching  System▼dYoon-Bong  Hahn,  Stephen  J.  Pearton
■260    ▼a서울▼b한국화학공학회▼c2000.
■300    ▼app.  304-309
■653    ▼aUNIFIED▼aGLOBAL▼aSELFCONSISTENT▼aMODEL▼aCAPACITIVELY▼aINDUCTIVELY▼aCOUPLED▼aPLASMA▼aETCHING▼aSYSTEM
■700    ▼aYoon-Bong  Hahn,  Stephen  J.  Pearton
■773    ▼tThe  KOREAN  International  Journal  of  Chemical  Engineering▼gVol.  17  No.  3  (2000  May)▼d2000,  05
■SIS    ▼aS018099▼b60066239▼h8▼s2

Preview

Export

ChatGPT Discussion

AI Recommended Related Books