MARC

 008050913s2004        ULKa    a                          ENG
■022    ▼a12259438
■245    ▼aGrowth  of  SiGe  Film  By  Using  A  Single-wafer  Rapid  Thermal  Processing  UHV/CVD  System▼d공저  Wentao  Huang,  Changchun  Chen,  Xiyou  Li
■260    ▼a서울▼b대한금속.재료학회▼c2004.
■300    ▼app.  435-438
■653    ▼aGROWTH▼aSIGE▼aFILM▼aUSING▼aSINGLEWAFER▼aRAPID▼aTHERMAL▼aPROCESSING▼aUHVCVD▼aSYSTEM
■700    ▼aWentao  Huang,  Changchun  Chen,  Xiyou  Li
■773    ▼tMetals  and  Materials▼gVOL.10  NO.5  (2004  OCTOBER)▼d2004,  10
■SIS    ▼aS010856▼b60013551▼h1▼s2▼fP

미리보기

내보내기

chatGPT토론

Ai 추천 관련 도서