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나노 스케일 C-MOS FET에 적용되는 완충된 SiGe층 위에 성장된 나노스케일 변위 실리콘층을 가지는 soi c-mosfet 제작
나노 스케일 C-MOS FET에 적용되는 완충된 SiGe층 위에 성장된 나노스케일 변위 실리콘층을 가지...
나노 스케일 C-MOS FET에 적용되는 완충된 SiGe층 위에 성장된 나노스케일 변위 실리콘층을 가지는 soi c-mosfet 제작

Detailed Information

자료유형  
 기사
ISSN  
12251550
서명/저자  
나노 스케일 C-MOS FET에 적용되는 완충된 SiGe층 위에 성장된 나노스케일 변위 실리콘층을 가지는 soi c-mosfet 제작 / 박재근 저
발행사항  
서울 : 대한금속.재료학회, 2004.
형태사항  
pp. 17
키워드  
나노 스케일 CMOS FET에 적용 완충 SIGE층 성장 변위 실리콘 가지 SOI CMOSFET
기타저자  
박재근
기본자료저록  
재료마당 : Vol.17 No.5 2004 2004, 12
모체레코드  
모체정보확인
Control Number  
kjul:60049592

MARC

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