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C₂F 6가스가 Via Etching 특성에 미치는 영향
C₂F 6가스가 Via Etching 특성에 미치는 영향
상세정보
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12296368
- 서명/저자
- C₂F 6가스가 Via Etching 특성에 미치는 영향 / 류지형, 박재돈, 윤기완 공저
- 발행사항
- 서울 : 대한전자공학회, 2002.
- 형태사항
- pp. 31-38
- 기타저자
- 류지형, 박재돈, 윤기완
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60044101
MARC
008050714s2002 ULKa a KOR■022 ▼a12296368
■245 ▼aC₂F 6가스가 Via Etching 특성에 미치는 영향▼d류지형, 박재돈, 윤기완 공저
■260 ▼a서울▼b대한전자공학회▼c2002.
■300 ▼app. 31-38
■653 ▼aC₂F▼a6가스가▼aVIA▼aETCHING▼a특성
■700 ▼a류지형, 박재돈, 윤기완
■773 ▼t전자공학회논문지SD(Semiconductor and Devices) : 반도체▼g제39권 제1호 (2002 1)▼d2002, 01
■SIS ▼aS009636▼b60014354▼h8▼s2
