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Hydride Vapor Phase Epitaxy 법으로 성장된 Free-Syanding GaN 기판의 특성에 관한 연구
Hydride Vapor Phase Epitaxy 법으로 성장된 Free-Syanding GaN 기판의 특성에 관한 연구 / 김화...
Hydride Vapor Phase Epitaxy 법으로 성장된 Free-Syanding GaN 기판의 특성에 관한 연구

Detailed Information

자료유형  
 기사
ISSN  
12296368
서명/저자  
Hydride Vapor Phase Epitaxy 법으로 성장된 Free-Syanding GaN 기판의 특성에 관한 연구 / 김화목, 최준성, 오재응 공저
발행사항  
서울 : 대한전자공학회, 2000.
형태사항  
pp. 14-19
키워드  
HYDRIDE VAPOR PHASE EPITAXY 성장 FREESYANDING GAN 기판 특성
기타저자  
김화목, 최준성, 오재응
기본자료저록  
전자공학회논문지SD(Semiconductor and Devices) : 반도체 : 제37권 제3호 (2000 3) 2000, 03
모체레코드  
모체정보확인
Control Number  
kjul:60043808

MARC

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