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 기사

ISSN  

12296368

서명/저자  

열처리 효과가 질소이온주입후에 성장시킨 산화막의 QBD 특성에 미치는 영향 / 남인호, 홍성인, 심재성 공저

발행사항  

서울 : 대한전자공학회, 2000.

형태사항  

pp. 6-13

키워드  

열처리 효과 질소 성장 시킨 산화 QBD 특성

기타저자  

남인호, 홍성인, 심재성

기본자료저록  

전자공학회논문지SD(Semiconductor and Devices) : 반도체 : 제37권 제3호 (2000 3) 2000, 03

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Control Number  

kjul:60043806