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UV/O₃와 ECR 플라즈마를 이용한 Wafer Storage Box로부터 발생하는 Si 웨이퍼 표면 위의 유기오염물 제거
UV/O₃와 ECR 플라즈마를 이용한 Wafer Storage Box로부터 발생하는 Si 웨이퍼 표면 위의 유기오염물 제거
Detailed Information
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 02533847
- 서명/저자
- UV/O₃와 ECR 플라즈마를 이용한 Wafer Storage Box로부터 발생하는 Si 웨이퍼 표면 위의 유기오염물 제거 / 최견석,임종민,이종무,박상준 공저
- 발행사항
- 서울 : 대한금속.재료학회, 2002.
- 형태사항
- pp. 765-771
- 기타저자
- 최견석,임종민,이종무,박상준
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- kjul:60016579
MARC
008030724s2002 ULKa a KOR■022 ▼a02533847
■245 ▼aUV/O₃와 ECR 플라즈마를 이용한 Wafer Storage Box로부터 발생하는 Si 웨이퍼 표면 위의 유기오염물 제거▼d최견석,임종민,이종무,박상준 공저
■260 ▼a서울▼b대한금속.재료학회▼c2002.
■300 ▼app. 765-771
■653 ▼aUVO₃와▼aECR▼a이용▼aWAFER▼aSTORAGE▼aBOX로부터▼a발생▼a웨이퍼▼a표면▼a위의▼a유기
■700 ▼a최견석,임종민,이종무,박상준
■773 ▼t대한금속.재료학회지▼gVol.40 No.7 2002▼d2002, 07
■SIS ▼aS009140▼b60013425▼h8▼s2
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