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방사광을 이용한 전반사 형광 X선 분석시 실리콘 웨이퍼의 결정방향에 대한 배경강도 의존성 연구
방사광을 이용한 전반사 형광 X선 분석시 실리콘 웨이퍼의 결정방향에 대한 배경강도 의존성 연...
방사광을 이용한 전반사 형광 X선 분석시 실리콘 웨이퍼의 결정방향에 대한 배경강도 의존성 연구

Detailed Information

자료유형  
 기사
ISSN  
02533847
서명/저자  
방사광을 이용한 전반사 형광 X선 분석시 실리콘 웨이퍼의 결정방향에 대한 배경강도 의존성 연구 / 허병국,이희석,신남수 공저
발행사항  
서울 : 대한금속.재료학회, 2002.
형태사항  
pp. 545-549
키워드  
방사광 이용 전반사 형광 X선 분석 실리콘 웨이퍼 결정 대한 배경 강도 의존성
기타저자  
허병국,이희석,신남수
기본자료저록  
대한금속.재료학회지 : Vol.40 No.5 2002 2002, 05
모체레코드  
모체정보확인
Control Number  
kjul:60016463

MARC

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